第364章 全球领先：新一代光刻机（1 / 3）

“徐总……”

徐华盛来到一个实验室内，看到徐华盛到来，姜汉文立刻笑了起来。

“姜主任……”

徐华盛点点头，目光却落在实验室墙壁上挂着的一个巨大的又复杂无比的设计图上了。

看着徐华盛的目光，姜汉文笑了起来。

“徐总，这就是我们华光电的第二款光刻机的设计图纸。目前整个设计工作已经接近尾声，其中的很多配套技术也已经突破了……”

姜汉文开始给徐华盛讲解这个设计图。

光刻机，姜汉文现在在华光电的主要项目就是研发光刻机。当第一代光刻机量产之后，姜汉文就已经展开第二代光刻机的研究了。

经过这么长时间，姜汉文他们终于完成了第二代光刻机的设计工作，相关的配套技术也已经差不多突破了。

相对于华光电的第一代光刻机，第二代光刻机的更为先进，曝光精度更高。

“徐总，这款光刻机，曝光光源为96纳米。如果采用二次曝光工艺，可以制作48纳米的芯片……”

姜汉文最后介绍道。徐华盛点点头，这个技术已经很厉害了。如此的曝光精度，领先国外差不多两代了。

“大概什么时候能量产？”

徐华盛直接问道。

“如果一切顺利的话，需要两年时间。这款光刻机更加复杂，技术也更高……”

姜汉文笑着说。

“嗯，不着急，稳着来……”

徐华盛眼里带着满意，其实现在华夏对更加先进的光刻机的需求并不算太迫切。毕竟现在的光刻机就已经很厉害了，在这个时代已经够用的了。

新一代光刻机量产后，可能也会先在军方使用，让军方生产更先进的军用芯片。至于民用的话并不迫切。现在的光刻机，生产2g手机芯片完全足够了。