第331章研发光刻机（1 / 1）

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芯片光刻机，也就是掩模对准曝光机，原理其实类似底片重印，利用光刻机发出的光，通过具有图形的光罩，对涂有光刻胶的薄片(就是掩膜曝光，光刻胶见光后会发生性质变化，使光罩上的图形复印到薄片上，从而让薄片具

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