第155章 图形发生器（2 / 3）

李三彪又拿来一个托其他小组研制的512K内存条，

这个内存条用上了后来复杂的印刷线路板技术，能将几十个4K内存颗粒联合使用，这下完美结局了算力问题。

李三彪又道：“其实这个图形，我已经编写了一个cAd1.0软件，并不需要一行行输代码。我帮你做个借口，你只要在平面绘出曝光图以后，可以很容易导入了！也方便进行修改！”

李三彪在电脑上一阵操作，很快根据老罗的设计，写好了一个cAd与图形发生器的接口程序。

然后，将设计组出的芯片图，按照掩膜设计要求，绘制了cAd版的掩膜图。

在cAd上画不同的颜色，代表各种曝光剂量。

当5倍光线强度的过量曝光时，会形成2微米粗的线条，就是微观的导线。

现在晶体管间距以微米计，并不代表光头每次移动也以微米计，

毕竟后来晶体管可是3纳米的间距，要真这样，那么大个的光头岂不是只能按微观世界一个个原子间距的移动了？

实际上，激光头其实就是个大功率的电子显微镜，它发出的光不仅可以成像，能量还足以刻蚀物体表面。

而电子显微镜是核心部件是电磁透镜，它用电磁原理来偏移光头产生的光束，达到类似光学透镜效果，

但控制它焦距的，其实是磁性大小，也就是产生磁力的电磁线圈里的电流大小，

所以，光头的电子束，完全可以通过电磁透镜进行拐弯，实现精确的偏转度，因而机械精度并没不需要那么高！

很多人隐隐觉得龙国机械精度不够，因而绝不可能有最精密的光刻机，这实在是太多虑了！

电子透镜的精度，其实只决定于光源的波长，跟机械精度没关系！

科技进步能用先进原理和设计方法，碾压煮饭仙人的旧工艺！

说得容易，李三彪和老罗搞定了一切，已经过了两个礼拜，终于开始正式测试了。

李三彪装入涂有光刻胶的掩膜，调节电镜，优化一番电镜参数，通过电镜控制窗口设置400微米曝光场，然后将工件台精确调整到调整到电镜下面。