第155章 图形发生器（3 / 3）

在紧张地呼吸声中，李三彪用这台国产机器开始它的第一次实验。

仔细对掩膜聚焦后，暂时关闭了电子束。在曝光窗口设定合适的曝光参数，开始第一次曝光。

取出掩膜显影，在光学显微镜下观察一番，当检查无误后，进行第二层曝光。

芯片或者掩膜一共有很多层，每一层出现瑕疵，这个产品便已经作废。

过去废品率非常高，还是摩托罗拉70年代初在发明6800芯片时，技术有了突破，芯片才可以量产，而在这之前，芯片生产时废品率高达95%。

李三彪这个掩膜一共四层，加上其他结构，需要七八次曝光。

第一个样品，在第五次曝光出现了瑕疵，烧掉了一大部分晶体区，宣告失败。

曝光过度了，说明此光刻胶无法承受预定的曝光参数，需要降低光头功率。

经过四五次尝试，李三彪和老罗终于掌握了光刻胶与电子束的曝光关系，刻出了第一只全国产掩膜！

经过多人用光镜电镜的反复检验，证明这只掩膜是完美无缺的！

老罗四十多岁的汉子，竟然流出了纵横的泪水。

“太好了，我们总算在之前看到了国产掩膜，这下我死也甘心了！”

李三彪道；“罗总您先去看病吧，我们还要研究国产光刻设备呢，您一定能活着看到！”

罗建福不肯相信，道：“癌症是不治之症，我不愿意耽误时间，浪费国家的钱，你们让我也加入光刻机的研究组吧！”

李三彪和沈田惠一阵无奈，实在不忍心冷了老罗的心，只要同意了。

沈田惠道：“其实别的单位有了不少光刻机，我们也不用从头研制，”

李三彪问道：“我们目前有什么国产光刻设备?水平如何？您都见过吗？”

沈田惠有点为难，道：“我觉得，这些设备水平参差不齐，我们既然是自己使用，还是得自己研发。”